वेफर धारक

वेफर धारकएपिटेक्सी प्रक्रिया में एक अनिवार्य घटक है। सेमीसेरा सर्वोत्तम सहायता प्रदान करता हैसी एपिटैक्सीऔरSiC एपिटैक्सीउत्कृष्ट डिजाइन और विनिर्माण के माध्यम से प्रक्रियाएं। हमारा वेफर होल्डर यह सुनिश्चित कर सकता है कि एपिटेक्सी प्रक्रिया के दौरान वेफर सटीक स्थिति में रहे, गर्मी और वायु प्रवाह वितरण की एकरूपता सुनिश्चित करता है, विशेष रूप से महत्वपूर्ण भूमिका निभाता हैएमओसीवीडी ससेप्टरऔरबैरल सुसेप्टर. चाहे वह मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन (मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन) का जमाव हो या जटिल रासायनिक वाष्प जमाव प्रक्रिया, सेमीसेरा का वेफर होल्डर उच्च गुणवत्ता वाली क्रिस्टल संरचना और स्थिर एपिटैक्सियल परत विकास सुनिश्चित कर सकता है।

सेमीसेरा का वेफर होल्डर अत्यधिक उच्च यांत्रिक शक्ति और थर्मल स्थिरता के साथ उच्च गुणवत्ता वाले उच्च तापमान प्रतिरोधी सामग्रियों से बना है, और बिना किसी विफलता के उच्च तापमान और जटिल रासायनिक वातावरण में लंबे समय तक उपयोग किया जा सकता है। विशेषकर मेंसी एपिटैक्सीऔरSiC एपिटैक्सीप्रक्रियाओं, सेमीसेरा का वेफर होल्डर सटीक नियंत्रण और उत्कृष्ट सामग्री चयन के माध्यम से प्रक्रिया में दोषपूर्ण दर और वेफर हानि को कम करता है।

हम अनुकूलित प्रदान करते हैंवफ़रविभिन्न प्रक्रिया और उपकरण आवश्यकताओं के लिए धारक, विशेष रूप से एमओसीवीडी ससेप्टर और बैरल ससेप्टर अनुप्रयोगों में। सेमीसेरा के उत्पाद न केवल उपकरण के जीवन का विस्तार करते हैं, बल्कि एपिटेक्सी प्रक्रिया की दक्षता और स्थिरता में भी सुधार करते हैं, यह सुनिश्चित करते हुए कि प्रत्येक वेफर का उत्पादन सख्त उद्योग मानकों को पूरा करता है।

सेमीसेरा हमेशा ग्राहकों को उच्च-प्रदर्शन वाले वेफर होल्डर्स प्रदान करने के लिए प्रतिबद्ध रहा है, चाहे वह अनुसंधान एवं विकास के लिए हो या बड़े पैमाने पर उत्पादन के लिए, ग्राहकों की Si Epitaxy और SiC Epitaxy प्रक्रियाओं में विभिन्न आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए। हम यह सुनिश्चित करने के लिए नवाचार करना जारी रखते हैं कि ग्राहकों को सेमीकंडक्टर निर्माण प्रक्रिया में सर्वोत्तम उत्पाद गुणवत्ता और प्रक्रिया नियंत्रण मिल सके।