सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) कोटिंग के साथ वेफर कैरियर

संक्षिप्त वर्णन:

सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) कोटिंग वाला वेफर कैरियर सेमीकंडक्टर निर्माण में उपयोग किया जाने वाला एक सब्सट्रेट है। इसकी विशेषता वेफर कैरियर की सतह पर लेपित सिलिकॉन कार्बाइड सामग्री की एक परत है। सिलिकॉन कार्बाइड में उत्कृष्ट तापीय चालकता और उच्च तापमान प्रतिरोध है, जो इसे अर्धचालक प्रक्रियाओं में थर्मल प्रबंधन के लिए एक आदर्श सामग्री बनाता है।


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विवरण

वेफर वाहकसाथसिलिकॉन कार्बाइड (SiC) कोटिंगसेमिसेरा को उच्च-प्रदर्शन एपिटैक्सियल विकास के लिए विशेषज्ञ रूप से डिज़ाइन किया गया है, जिससे इष्टतम परिणाम सुनिश्चित होते हैंसी एपिटैक्सीऔरSiC एपिटैक्सीअनुप्रयोग. सेमीसेरा के सटीक-इंजीनियर्ड कैरियर चरम स्थितियों का सामना करने के लिए बनाए गए हैं, जो उन्हें उच्च सटीकता और स्थायित्व की आवश्यकता वाले उद्योगों के लिए एमओसीवीडी ससेप्टर सिस्टम में आवश्यक घटक बनाते हैं।

ये वेफर वाहक बहुमुखी हैं, जैसे उपकरणों के साथ महत्वपूर्ण प्रक्रियाओं का समर्थन करते हैंपीएसएस नक़्क़ाशी वाहक, आईसीपी नक़्क़ाशी वाहक, औरआरटीपी वाहक. उनकी मजबूत SiC कोटिंग जैसे अनुप्रयोगों के लिए प्रदर्शन को बढ़ाती हैएलईडी एपिटैक्सियलससेप्टर और मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन, मांग वाले वातावरण में भी लगातार परिणाम सुनिश्चित करते हैं।

बैरल ससेप्टर और पैनकेक ससेप्टर जैसे कई कॉन्फ़िगरेशन में उपलब्ध, ये वाहक फोटोवोल्टिक और सेमीकंडक्टर निर्माण में महत्वपूर्ण भूमिका निभाते हैं, फोटोवोल्टिक भागों के उत्पादन का समर्थन करते हैं और SiC एपिटैक्सी प्रक्रियाओं पर GaN की सुविधा प्रदान करते हैं। अपने बेहतर डिज़ाइन के साथ, ये वाहक उच्च दक्षता वाले उत्पादन का लक्ष्य रखने वाले निर्माताओं के लिए एक प्रमुख संपत्ति हैं।

 

मुख्य विशेषताएं

1 .उच्च शुद्धता SiC लेपित ग्रेफाइट

2. बेहतर गर्मी प्रतिरोध और थर्मल एकरूपता

3. ठीक हैSiC क्रिस्टल लेपितचिकनी सतह के लिए

4. रासायनिक सफाई के खिलाफ उच्च स्थायित्व

 

सीवीडी-एसआईसी कोटिंग्स की मुख्य विशिष्टताएँ:

SiC-सीवीडी
घनत्व (जी/सीसी) 3.21
आनमनी सार्मथ्य (एमपीए) 470
थर्मल विस्तार (10-6/के) 4
ऊष्मीय चालकता (डब्ल्यू/एमके) 300

पैकिंग और शिपिंग

आपूर्ति की योग्यता:
प्रति माह 10000 पीस/टुकड़े
पैकेजिंग एवं डिलिवरी:
पैकिंग: मानक एवं मजबूत पैकिंग
पॉली बैग + बॉक्स + कार्टन + पैलेट
पत्तन:
निंगबो/शेन्ज़ेन/शंघाई
समय सीमा:

मात्रा(टुकड़े)

1-1000

>1000

ईएसटी। समय(दिन) 30 बातचीत करने के लिए
सेमीसेरा कार्यस्थल
सेमीसेरा कार्यस्थल 2
उपकरण मशीन
सीएनएन प्रसंस्करण, रासायनिक सफाई, सीवीडी कोटिंग
सेमीसेरा वेयर हाउस
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