एमओसीवीडी के लिए सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) वेफर ससेप्टर्स

संक्षिप्त वर्णन:

सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) वेफर ससेप्टर मेटल ऑर्गेनिक केमिकल वाष्प जमाव (MOCVD) प्रक्रिया में उपयोग किए जाने वाले प्रमुख घटकों में से एक है। इसकी मुख्य भूमिका पतली फिल्म की विकास गुणवत्ता और एकरूपता सुनिश्चित करने के लिए एमओसीवीडी प्रक्रिया में प्रमुख मापदंडों की निगरानी और नियंत्रण करना है।

 


उत्पाद विवरण

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विवरण

सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) वेफर ससेप्टर्ससेमीसेरा से एमओसीवीडी को उन्नत एपिटैक्सियल प्रक्रियाओं के लिए डिज़ाइन किया गया है, जो दोनों के लिए बेहतर प्रदर्शन प्रदान करता हैसी एपिटैक्सीऔरSiC एपिटैक्सीअनुप्रयोग. सेमीसेरा का अभिनव दृष्टिकोण यह सुनिश्चित करता है कि ये रिसेप्टर्स टिकाऊ और कुशल हैं, जो महत्वपूर्ण विनिर्माण कार्यों के लिए स्थिरता और सटीकता प्रदान करते हैं।

की जटिल आवश्यकताओं का समर्थन करने के लिए इंजीनियर किया गयाएमओसीवीडी ससेप्टरसिस्टम, ये उत्पाद बहुमुखी हैं, पीएसएस एचिंग कैरियर, आईसीपी एचिंग कैरियर और आरटीपी कैरियर जैसे वाहक के साथ संगत हैं। उनका लचीलापन उन्हें उच्च-तकनीकी उद्योगों के लिए उपयुक्त बनाता है, जिनमें काम करने वाले लोग भी शामिल हैंएलईडी एपिटैक्सियलसुसेप्टर और मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन।

बैरल ससेप्टर और पैनकेक ससेप्टर सहित कई कॉन्फ़िगरेशन के साथ, ये वेफर ससेप्टर फोटोवोल्टिक क्षेत्र में भी आवश्यक हैं, जो फोटोवोल्टिक पार्ट्स विनिर्माण का समर्थन करते हैं। सेमीकंडक्टर निर्माताओं के लिए, SiC एपिटैक्सी प्रक्रियाओं पर GaN को संभालने की क्षमता इन रिसेप्टर्स को अनुप्रयोगों की एक विस्तृत श्रृंखला में उच्च गुणवत्ता वाले आउटपुट सुनिश्चित करने के लिए अत्यधिक मूल्यवान बनाती है।

 

मुख्य विशेषताएं

1 .उच्च शुद्धता SiC लेपित ग्रेफाइट

2. बेहतर गर्मी प्रतिरोध और थर्मल एकरूपता

3. ठीक हैSiC क्रिस्टल लेपितचिकनी सतह के लिए

4. रासायनिक सफाई के खिलाफ उच्च स्थायित्व

 

सीवीडी-एसआईसी कोटिंग्स की मुख्य विशिष्टताएँ:

SiC-सीवीडी
घनत्व (जी/सीसी) 3.21
आनमनी सार्मथ्य (एमपीए) 470
थर्मल विस्तार (10-6/के) 4
ऊष्मीय चालकता (डब्ल्यू/एमके) 300

पैकिंग और शिपिंग

आपूर्ति की योग्यता:
प्रति माह 10000 पीस/टुकड़े
पैकेजिंग एवं डिलिवरी:
पैकिंग: मानक एवं मजबूत पैकिंग
पॉली बैग + बॉक्स + कार्टन + पैलेट
पत्तन:
निंगबो/शेन्ज़ेन/शंघाई
समय सीमा:

मात्रा(टुकड़े)

1-1000

>1000

ईएसटी। समय(दिन) 30 बातचीत करने के लिए
सेमीसेरा कार्यस्थल
सेमीसेरा कार्यस्थल 2
उपकरण मशीन
सीएनएन प्रसंस्करण, रासायनिक सफाई, सीवीडी कोटिंग
सेमीसेरा वेयर हाउस
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