एमओसीवीडी के लिए सिलिकॉन कार्बाइड डिस्क

सिलिकॉन कार्बाइड डिस्कसेमीसेरा से एमओसीवीडी के लिए, एपिटैक्सियल विकास प्रक्रियाओं में इष्टतम दक्षता के लिए डिज़ाइन किया गया एक उच्च प्रदर्शन समाधान। सेमीसेरा सिलिकॉन कार्बाइड डिस्क असाधारण तापीय स्थिरता और परिशुद्धता प्रदान करती है, जो इसे Si Epitaxy और SiC Epitaxy प्रक्रियाओं में एक आवश्यक घटक बनाती है। एमओसीवीडी अनुप्रयोगों के उच्च तापमान और कठिन परिस्थितियों का सामना करने के लिए इंजीनियर की गई यह डिस्क विश्वसनीय प्रदर्शन और दीर्घायु सुनिश्चित करती है।

हमारी सिलिकॉन कार्बाइड डिस्क MOCVD सेटअपों की एक विस्तृत श्रृंखला के साथ संगत है, जिसमें शामिल हैंएमओसीवीडी ससेप्टरसिस्टम, और SiC एपिटैक्सी पर GaN जैसी उन्नत प्रक्रियाओं का समर्थन करता है। यह पीएसएस एचिंग कैरियर, आईसीपी एचिंग कैरियर और आरटीपी कैरियर सिस्टम के साथ आसानी से एकीकृत होता है, जो आपके विनिर्माण आउटपुट की सटीकता और गुणवत्ता को बढ़ाता है। चाहे मोनोक्रिस्टलाइन सिलिकॉन उत्पादन या एलईडी एपिटैक्सियल ससेप्टर अनुप्रयोगों के लिए उपयोग किया जाए, यह डिस्क असाधारण परिणाम सुनिश्चित करती है।

इसके अतिरिक्त, सेमीसेरा की सिलिकॉन कार्बाइड डिस्क पैनकेक ससेप्टर और बैरल ससेप्टर सेटअप सहित विभिन्न कॉन्फ़िगरेशन के अनुकूल है, जो विविध विनिर्माण वातावरण में लचीलापन प्रदान करती है। फोटोवोल्टिक भागों का समावेश सौर ऊर्जा उद्योगों में इसके अनुप्रयोग को और बढ़ाता है, जिससे यह आधुनिक के लिए एक बहुमुखी और अपरिहार्य घटक बन जाता है।epitaxialविकास और अर्धचालक विनिर्माण।