शुद्ध सीवीडी सिलिकॉन कार्बाइड

सीवीडी बल्क सिलिकॉन कार्बाइड (SiC)

 

अवलोकन:सीवीडीथोक सिलिकॉन कार्बाइड (SiC)प्लाज्मा नक़्क़ाशी उपकरण, रैपिड थर्मल प्रोसेसिंग (आरटीपी) अनुप्रयोगों और अन्य अर्धचालक विनिर्माण प्रक्रियाओं में अत्यधिक मांग वाली सामग्री है। इसके असाधारण यांत्रिक, रासायनिक और थर्मल गुण इसे उन्नत प्रौद्योगिकी अनुप्रयोगों के लिए एक आदर्श सामग्री बनाते हैं जो उच्च परिशुद्धता और स्थायित्व की मांग करते हैं।

सीवीडी बल्क SiC के अनुप्रयोग:बल्क SiC सेमीकंडक्टर उद्योग में महत्वपूर्ण है, विशेष रूप से प्लाज्मा नक़्क़ाशी प्रणालियों में, जहां फोकस रिंग, गैस शॉवरहेड्स, एज रिंग और प्लैटेंस जैसे घटक SiC के उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध और तापीय चालकता से लाभान्वित होते हैं। इसका उपयोग तक फैला हुआ हैआरटीपीमहत्वपूर्ण गिरावट के बिना तेजी से तापमान में उतार-चढ़ाव का सामना करने की SiC की क्षमता के कारण सिस्टम।

नक़्क़ाशी उपकरण के अलावा, सी.वी.डीथोक SiCप्रसार भट्टियों और क्रिस्टल विकास प्रक्रियाओं में इसे पसंद किया जाता है, जहां उच्च तापीय स्थिरता और कठोर रासायनिक वातावरण के प्रतिरोध की आवश्यकता होती है। ये विशेषताएँ SiC को उच्च तापमान और संक्षारक गैसों जैसे क्लोरीन और फ्लोरीन युक्त उच्च-मांग वाले अनुप्रयोगों के लिए पसंद की सामग्री बनाती हैं।

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सीवीडी बल्क SiC घटकों के लाभ:

उच्च घनत्व:3.2 ग्राम/सेमी³ के घनत्व के साथ,सीवीडी बल्क SiCघटक घिसाव और यांत्रिक प्रभाव के प्रति अत्यधिक प्रतिरोधी हैं।

बेहतर तापीय चालकता:300 W/m·K की तापीय चालकता प्रदान करते हुए, बल्क SiC कुशलता से गर्मी का प्रबंधन करता है, जो इसे अत्यधिक तापीय चक्रों के संपर्क में आने वाले घटकों के लिए आदर्श बनाता है।

असाधारण रासायनिक प्रतिरोध:क्लोरीन और फ्लोरीन-आधारित रसायनों सहित नक़्क़ाशी गैसों के साथ SiC की कम प्रतिक्रिया, लंबे समय तक घटक जीवन सुनिश्चित करती है।

समायोज्य प्रतिरोधकता: सीवीडी बल्क SiCप्रतिरोधकता को 10⁻²–10⁴ Ω-सेमी की सीमा के भीतर अनुकूलित किया जा सकता है, जो इसे विशिष्ट नक़्क़ाशी और अर्धचालक विनिर्माण आवश्यकताओं के अनुकूल बनाता है।

थर्मल विस्तार गुणांक:4.8 x 10⁻⁶/डिग्री सेल्सियस (25-1000 डिग्री सेल्सियस) के थर्मल विस्तार गुणांक के साथ, सीवीडी बल्क SiC थर्मल झटके का प्रतिरोध करता है, तेजी से हीटिंग और शीतलन चक्र के दौरान भी आयामी स्थिरता बनाए रखता है।

प्लाज्मा में स्थायित्व:अर्धचालक प्रक्रियाओं में प्लाज्मा और प्रतिक्रियाशील गैसों का एक्सपोजर अपरिहार्य है, लेकिनसीवीडी बल्क SiCसंक्षारण और क्षरण के लिए बेहतर प्रतिरोध प्रदान करता है, प्रतिस्थापन आवृत्ति और समग्र रखरखाव लागत को कम करता है।

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तकनीकी निर्देश:

व्यास:305 मिमी से अधिक

प्रतिरोधकता:10⁻²–10⁴ Ω-सेमी के भीतर समायोज्य

घनत्व:3.2 ग्राम/सेमी³

ऊष्मीय चालकता:300 डब्लू/एम·के

थर्मल विस्तार गुणांक:4.8 x 10⁻⁶/डिग्री सेल्सियस (25-1000 डिग्री सेल्सियस)

 

अनुकूलन और लचीलापन:परसेमीसेरा सेमीकंडक्टर, हम समझते हैं कि प्रत्येक अर्धचालक अनुप्रयोग के लिए अलग-अलग विशिष्टताओं की आवश्यकता हो सकती है। यही कारण है कि हमारे सीवीडी बल्क SiC घटक पूरी तरह से अनुकूलन योग्य हैं, समायोज्य प्रतिरोधकता और आपके उपकरण की आवश्यकताओं के अनुरूप आयामों के साथ। चाहे आप अपने प्लाज्मा नक़्क़ाशी सिस्टम को अनुकूलित कर रहे हों या आरटीपी या प्रसार प्रक्रियाओं में टिकाऊ घटकों की तलाश कर रहे हों, हमारा सीवीडी बल्क SiC अद्वितीय प्रदर्शन प्रदान करता है।

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