एकल क्रिस्टल भट्ठी के गर्म क्षेत्र के लिए ग्रेफाइट सहायक उपकरण

संक्षिप्त वर्णन:

सेमीसेरा के सिंगल क्रिस्टल फर्नेस थर्मल फील्ड ग्रेफाइट सहायक उपकरण फोटोवोल्टिक उद्योग के लिए आवश्यक हैं। ये घटक एक स्थिर तापीय क्षेत्र सुनिश्चित करते हैं, जो सौर सेल विनिर्माण में सिलिकॉन एकल क्रिस्टल के विकास का समर्थन करते हैं। सेमीसेरा के ग्रेफाइट सहायक उपकरण स्थायित्व और दक्षता के लिए डिज़ाइन किए गए हैं, जो उन्हें उच्च-प्रदर्शन वाले सौर अनुप्रयोगों के लिए आदर्श बनाते हैं।


उत्पाद विवरण

उत्पाद टैग

फोटोवोल्टिक उद्योग में एकल क्रिस्टल भट्टियों के लिए ग्रेफाइट सहायक उपकरण सौर सेल निर्माण में महत्वपूर्ण भूमिका निभाते हैं। वे एक स्थिर तापीय वातावरण प्रदान करके और सिलिकॉन एकल क्रिस्टल के विकास का समर्थन करके सौर कोशिकाओं की उत्पादन क्षमता और गुणवत्ता को सीधे प्रभावित करते हैं। इसलिए, विकसित हो रहे फोटोवोल्टिक उद्योग की जरूरतों को पूरा करने के लिए ग्रेफाइट सहायक उपकरण के प्रदर्शन, स्थायित्व और अनुकूलन क्षमता में सुधार के लिए अनुसंधान और विकास और नवाचार लगातार किए जाते हैं।

 परिचय:

1. सामग्री चयन: फोटोवोल्टिक उद्योग में एकल क्रिस्टल भट्ठी के थर्मल क्षेत्र के लिए ग्रेफाइट सहायक उपकरण आमतौर पर उच्च शुद्धता वाली ग्रेफाइट सामग्री का उपयोग करते हैं। थर्मल क्षेत्र की स्थिरता और उच्च तापमान वाले वातावरण में स्थायित्व सुनिश्चित करने के लिए इन ग्रेफाइट सहायक उपकरणों में उच्च शुद्धता, कम अशुद्धता सामग्री और उत्कृष्ट तापीय चालकता होनी चाहिए।

2. थर्मल फ़ील्ड डिज़ाइन: एकल क्रिस्टल भट्ठी के थर्मल फ़ील्ड के लिए ग्रेफाइट सहायक उपकरण के डिज़ाइन को थर्मल फ़ील्ड की एकरूपता और स्थिरता पर विचार करने की आवश्यकता है। ग्रेफाइट सहायक उपकरण का आकार और संरचना थर्मल क्षेत्र के संचालन और वितरण में महत्वपूर्ण भूमिका निभाती है ताकि यह सुनिश्चित किया जा सके कि सिलिकॉन एकल क्रिस्टल भट्ठी में समान रूप से गर्म हो और लगातार तापमान वितरण प्राप्त हो।

3. तापीय चालकता: फोटोवोल्टिक उद्योग में एकल क्रिस्टल भट्टी के तापीय क्षेत्र के लिए ग्रेफाइट सहायक उपकरण में कुशल तापीय चालकता और समान तापमान वितरण प्रदान करने के लिए अच्छी तापीय चालकता की आवश्यकता होती है। इससे यह सुनिश्चित करने में मदद मिलती है कि भट्ठी में विकास प्रक्रिया के दौरान सिलिकॉन सिंगल क्रिस्टल को समान रूप से गर्म किया जाता है और क्रिस्टल की गुणवत्ता पर तापमान प्रवणता के प्रभाव को कम किया जाता है।

4. उच्च तापमान प्रतिरोध: चूंकि एकल क्रिस्टल भट्टी में विकास तापमान आमतौर पर अधिक होता है, फोटोवोल्टिक उद्योग में एकल क्रिस्टल भट्टी के थर्मल क्षेत्र के लिए ग्रेफाइट सहायक उपकरण में अच्छे उच्च तापमान प्रतिरोध की आवश्यकता होती है। उन्हें दीर्घकालिक स्थिर संचालन सुनिश्चित करने के लिए उच्च तापमान वाले वातावरण में संरचनात्मक स्थिरता और यांत्रिक शक्ति बनाए रखने में सक्षम होना चाहिए।

5. संक्षारण प्रतिरोध: फोटोवोल्टिक उद्योग में एकल क्रिस्टल भट्ठी के थर्मल क्षेत्र के लिए ग्रेफाइट सहायक उपकरण को सिलिकॉन सामग्री और अन्य रसायनों के संपर्क में आने पर होने वाली रासायनिक प्रतिक्रियाओं से निपटने के लिए अच्छा संक्षारण प्रतिरोध होना चाहिए। यह ग्रेफाइट सहायक उपकरण की स्थिरता और जीवन को बनाए रखने में मदद करता है।

 

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