एपिटैक्सी रिएक्टर सिस्टम में सीवीडी एसआईसी कोटिंग एपिटैक्सियल जमाव

संक्षिप्त वर्णन:

सेमिसेरा विभिन्न एपिटेक्सी रिएक्टरों के लिए डिज़ाइन किए गए रिसेप्टर्स और ग्रेफाइट घटकों की एक विस्तृत श्रृंखला प्रदान करता है।

उद्योग के अग्रणी ओईएम, व्यापक सामग्री विशेषज्ञता और उन्नत विनिर्माण क्षमताओं के साथ रणनीतिक साझेदारी के माध्यम से, सेमीसेरा आपके एप्लिकेशन की विशिष्ट आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए अनुरूप डिजाइन प्रदान करता है। उत्कृष्टता के प्रति हमारी प्रतिबद्धता यह सुनिश्चित करती है कि आपको अपनी एपिटेक्सी रिएक्टर आवश्यकताओं के लिए इष्टतम समाधान प्राप्त हों।

 

 


उत्पाद विवरण

उत्पाद टैग

हमारी कंपनी उपलब्ध कराती हैSiC कोटिंगसीवीडी विधि द्वारा ग्रेफाइट, सिरेमिक और अन्य सामग्रियों की सतह पर प्रक्रिया सेवाएं, ताकि कार्बन और सिलिकॉन युक्त विशेष गैसें उच्च शुद्धता वाले सिक अणुओं को प्राप्त करने के लिए उच्च तापमान पर प्रतिक्रिया कर सकें, जिन्हें लेपित सामग्रियों की सतह पर जमा किया जा सकता है।SiC सुरक्षात्मक परतबैरल प्रकार हाई प्नोटिक के लिए।

 

मुख्य विशेषताएं:

1 .उच्च शुद्धता SiC लेपित ग्रेफाइट

2. बेहतर गर्मी प्रतिरोध और थर्मल एकरूपता

3. ठीक हैSiC क्रिस्टल लेपितचिकनी सतह के लिए

4. रासायनिक सफाई के खिलाफ उच्च स्थायित्व

 
बैरल रिएक्टर में सीवीडी एपिटैक्सियल जमाव

की मुख्य विशिष्टताएँसीवीडी-एसआईसी कोटिंग

SiC-सीवीडी गुण

क्रिस्टल की संरचना एफसीसी β चरण
घनत्व जी/सेमी ³ 3.21
कठोरता विकर्स कठोरता 2500
अनाज आकार माइक्रोन 2~10
रासायनिक शुद्धता % 99.99995
ताप की गुंजाइश जे·किलो-1 ·के-1 640
उर्ध्वपातन तापमान 2700
फेलेक्सुरल ताकत एमपीए (आरटी 4-पॉइंट) 415
यंग का मापांक जीपीए (4पीटी बेंड, 1300℃) 430
थर्मल विस्तार (सीटीई) 10-6K -1 4.5
ऊष्मीय चालकता (डब्ल्यू/एमके) 300

 

 
2--सीवीडी-एसआईसी-शुद्धता---99-99995-_60366
5----एसआईसी-क्रिस्टल_242127
सेमीसेरा कार्यस्थल
सेमीसेरा कार्यस्थल 2
उपकरण मशीन
सीएनएन प्रसंस्करण, रासायनिक सफाई, सीवीडी कोटिंग
हमारी सेवा

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