विवरण
हमारी कंपनी उपलब्ध कराती हैSiC कोटिंगग्रेफाइट, सिरेमिक और अन्य सामग्रियों की सतह पर सीवीडी विधि द्वारा प्रक्रिया सेवाएं, ताकि कार्बन और सिलिकॉन युक्त विशेष गैसें उच्च शुद्धता वाले SiC अणुओं को प्राप्त करने के लिए उच्च तापमान पर प्रतिक्रिया करें, लेपित सामग्रियों की सतह पर जमा अणुओं का निर्माण होता हैएसआईसी सुरक्षात्मक परत.
मुख्य विशेषताएं
1. उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध:
जब तापमान 1600 C तक हो तब भी ऑक्सीकरण प्रतिरोध बहुत अच्छा होता है।
2. उच्च शुद्धता: उच्च तापमान क्लोरीनीकरण स्थिति के तहत रासायनिक वाष्प जमाव द्वारा बनाई गई।
3. कटाव प्रतिरोध: उच्च कठोरता, कॉम्पैक्ट सतह, महीन कण।
4. संक्षारण प्रतिरोध: अम्ल, क्षार, नमक और कार्बनिक अभिकर्मक।
सीवीडी-एसआईसी कोटिंग की मुख्य विशिष्टताएँ
| SiC-सीवीडी गुण | ||
| क्रिस्टल की संरचना | एफसीसी β चरण | |
| घनत्व | जी/सेमी ³ | 3.21 |
| कठोरता | विकर्स कठोरता | 2500 |
| अनाज आकार | माइक्रोन | 2~10 |
| रासायनिक शुद्धता | % | 99.99995 |
| ताप की गुंजाइश | जे·किलो-1 ·के-1 | 640 |
| उर्ध्वपातन तापमान | ℃ | 2700 |
| फेलेक्सुरल ताकत | एमपीए (आरटी 4-पॉइंट) | 415 |
| यंग का मापांक | जीपीए (4पीटी बेंड, 1300℃) | 430 |
| थर्मल विस्तार (सीटीई) | 10-6K -1 | 4.5 |
| ऊष्मीय चालकता | (डब्ल्यू/एमके) | 300 |
